EUV光刻機，這一代表著半導體制造領域高精尖技術的設備，其研發歷程可謂歷盡艱辛，技術難度極高。從上世紀80年代開始，EUV光源的研發就吸引了全球科研人員的目光。當時，科研人員致力于探索4nm至40nm的多個波長，力求找到最適合光刻技術的光源。與此同時，電子束光刻機、離子束光刻等技術也在同步研發中，各種技術路線競爭激烈。