近日，BusinessKorea報道，由于2nm制程量產良率問題，三星電子決定暫停其在 Texas（泰勒）工廠的人員部署，并撤回部分工作人員回國。這一舉措不僅凸顯了三星在先進制程工藝上所面臨的挑戰，也引發了外界對其競爭力的擔憂。
據悉，三星電子在2nm制程上的良率目前低于50%，尤其是在3nm以下工藝方面，與競爭對手臺積電相比存在明顯差距。據數據顯示，臺積電的先進工藝良率約為60-70%，這使得臺積電在市場份額上領先于三星，差距高達50.8個百分點（臺積電Q2占比62.3%，而三星僅為11.5%）。
業內人士透露，三星電子在GAA（Gate-All-Around）工藝上的良率僅為10-20%，這遠低于訂單和大規模生產所需的良率標準。正是這一良率問題，迫使三星重新考慮其戰略，并決定從泰勒工廠撤回工作人員。
與此同時，三星電子已簽署了一份初步協議，希望通過美國CHIPS法案獲得最高9萬億韓元（約合478.26億元人民幣）的補貼。然而，這一補貼的獲得有一個前提，那就是工廠必須滿足美國的相關條件。在當前良率問題的背景下，三星能否順利拿到這一補貼，成為了外界關注的焦點。
業內專家認為，三星電子在晶圓代工領域的競爭力下滑，其內部官僚主義、決策制定流程緩慢以及低薪酬是主要原因。一位半導體教授指出，與20-30年前相比，三星在投資時機上的延后，也暴露出管理層當前現實缺乏充分認識。要想重振競爭力，三星電子需要對管理系統進行根本性的改革。
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